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GMP固体制剂净化车间设计施工
固体制剂洁净厂房要求：固体制剂生产的暴露工序区域及其直接接触药品的包装材料终处理的暴露工序区域，应参照无菌药品附录中D级
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2021-06-03 |
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GMP制药洁净工业厂房设计施工
制药洁净室要求：制药洁净室的温度和湿度设计参数应符合下列规定： 1 药品生产工艺及产品对温度和湿度有特殊要求时，应根据工艺
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2021-06-03 |
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GMP化妆品洁净工程设计施工
化妆品厂房设施要求：厂房应有与生产规模相适应的面积和空间，并合理布局；应按生产工艺流程及环境控制要求设置功能间（包括制作
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2021-06-03 |
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罐头食品净化车间设计施工
罐头食品清洁作业区厂房空气过滤要求：加工，包装车间及仓库应保持通风良好，应装设有效的换气设施。异味及气体包括蒸汽及有毒气
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2021-06-03 |
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饮料清洁作业车间设计施工
饮料清洁作业区厂房设施要求： 生产车间依其清洁度要求一般分为：一般作业区（以果蔬为原料的清洗区、水处理区、仓储区、外包装
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2021-06-03 |
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豆制品净化车间设计施工
豆制品清洁作业区厂房设施要求：一般作业区，清洁作业区和准清洁作业区之间应完全隔离。厂房内进行空气调节，进排气等换气操作时
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2021-06-03 |
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光纤器件无尘车间设计施工
光纤器件无尘车间空气净化系统要求:光单元生产车间温度宜保持在15度～28度，相对湿度宜保持在40%～70%。光栅光刻车间洁净度不应
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2021-06-03 |
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多晶硅无尘车间设计施工
多晶硅无尘车间环境设施要求：1 半导体级多晶硅还原厂房的还原炉室应按洁净厂房进行设计，空气洁净度等级不应低于8级。平面布置
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2021-06-03 |
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